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記事ID : 14919
研究用

6-4PPs 特異的モノクローナル抗体を使用した ELISA kit高感度紫外線誘発 DNA 損傷 6-4PP / (6-4) photoproduct 測定キット

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紫外線誘発 DNA 損傷 6-4PP 測定 ELISA キットは、紫外線(UV)によって誘発される DNA 損傷である6-4型光産物(6-4PPs)を、ELISA 法により高感度に検出・測定します。

本キットは、6-4PPs の検出・定量用抗体のスタンダートとして長年にわたり世界中で使用されてきた 6-4PPs 特異的モノクローナル抗体(クローン: 64M-2) を使用した、初めての ELISA キットです。

提供者: 奈良県立医科大学先端医学研究機構ラジオアイソトープ実験施設 研究教授 森 俊雄 先生

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背景

紫外線(UV)による DNA 損傷

紫外線を浴びすぎると日焼け、光老化、皮膚がん、目の障害、免疫能の低下など、さまざまな悪影響が生じます。この健康影響に深く関係しているのが DNA 損傷です。紫外線照射により DNA のピリミジン塩基が連続した箇所で変化が生じ3種類の主要ピリミジン二量体(シクロブタン型ピリミジンダイマー/CPD、6-4型光産物/6-4PP、Dewar 型光産物/DewarPP)が形成されます。これらの紫外線損傷は DNA の複製や転写に影響を与え、突然変異やアポトーシスなどを引き起こします。

6-4型光産物/6-4PP

使用目的

本キットは、紫外線に関連する細胞応答、癌研究、光生物学、皮膚疾患、眼科、免疫学、美容など幅広い研究分野において強力な研究ツールとなります。

特長

  • 世界標準の 6-4PPs 特異的モノクローナル抗体 クローン: 64M-2 を使用
  • 4種類のピリミジン二量体(TT, TC, CT, CC)に形成された 6-4PP を検出
  • 高感度
  • 紫外線照射 DNA および未照射 DNA を同梱
  • サンプル DNA を安定結合させる硫酸プロタミン付着プレートを同梱
  OPD 版 TMB 版
外観 高感度紫外線誘発 DNA 損傷 6-4PP / (6-4) 測定キット High Sensitivity 6-4PP ELISA Kit (TMB)
品名 High Sensitivity 6-4PP ELISA Kit High Sensitivity 6-4PP ELISA Kit (TMB)
品番 NM-MA-K002 NM-MA-K004
基質 OPD(タブレット型・3 錠) TMB(液体・12 mL)
測定波長 492 nm 450 nm
特長 低バックグラウンド 高シグナル、1 液式基質の採用により試薬調製の手間を省略
吸光度 同じスタンダード抗原(UVC-Irradiated DNA Samples, 品番:NM-MA-R010)を測定し、吸光度を比較した。
  • DNA固相化量: 1ウェルあたり、200 ng
  • グラフは 0 J/m2 の吸光度を 0 とするブランク補正済み
⇒ 新製品の TMB 版キット(品番:NM-MA-K004)は、OPD 版キット(品番:NM-MA-K002)と同等の性能を示す

※ 同じスタンダード抗原(UVC-Irradiated DNA Samples, 品番:NM-MA-R010)を測定し、吸光度を比較した。

構成内容

  • 硫酸プロタミンコート済み ELISA プレート (12 x 8 ウェルストリップ)
  • ポジティブスタンダード - ウシ胸腺 DNA、UVC 照射(10 J/m2
  • ネガティブスタンダード - ウシ胸腺 DNA、UV照射なし
  • アッセイ希釈液(10×)
  • 洗浄バッファー(20×)
  • ブロッキング試薬(50×)
  • 抗 6-4PPs モノクローナル抗体(クローン 64M-2)(100×)
  • ビオチン標識二次抗体(100×)
  • ストレプトアビジン‐ペルオキシダーゼ(100×)
  • 基質(品番により異なります)
    • 品番 NM-MA-K002: OPD タブレット(5 mg)、OPD 希釈液(10×)
    • 品番 NM-MA-K004: TMB(12 mL)
  • 停止液
  • プレートカバーフィルム

製品データ

OPD版(品番:NM-MA-K002)の使用例

図1 紫外線(UV)照射により生じた DNA 損傷である 6-4型光産物(6-4PPs)を ELISA 法により測定
図1 紫外線(UV)照射により生じた DNA 損傷である 6-4型光産物(6-4PPs)を ELISA 法により測定

図2 紫外線照射(UV)による 6-4 型光産物(6-4PPs)の形成と修復を ELISA 法 により測定した。
図2 紫外線照射(UV)による 6-4 型光産物(6-4PPs)の形成と修復を ELISA 法 により測定した。
HeLa 細胞のDNAにおいて、UV照射量依存的に 6-4PPs が形成された(グラフ左)。
10J/m2 のUV照射により形成された 6-4PP 量は経時的に減少し(グラフ右)、ヌ クレオチド除去修復が行われたことが示された。

高感度紫外線誘発 DNA 損傷 6-4PP / (6-4) 測定キット

基質: OPD

品名 メーカー 品番 包装 希望販売価格
High Sensitivity 6-4PP/ (6-4) photoproduct ELISA kit詳細データ CSR NM-MA-K002 1 KIT
[96 TEST]
¥100,000

基質: TMB

品名 メーカー 品番 包装 希望販売価格
High Sensitivity 6-4PP/ (6-4) photoproduct ELISA kit(TMB)詳細データ CSR NM-MA-K004 1 KIT
[96 TEST]
¥100,000

【関連商品】 スタンダードDNA

品名 メーカー 品番 包装 希望販売価格
UVC-irradiated DNA samples詳細データ CSR NM-MA-R010 5*10 UG
[[ 0, 2.5, 5, 7.5, 10 J/m2 ]]
¥30,000

参考文献

6-4PPs 特異的モノクローナル抗体(クローン:64M-2)を使用した論文は、これまでに 200 報以上報告されています。

  1. Mori, T., et al., Photochem. Photobiol. 54, 225-232 (1991)
  2. Matsunaga, T., et al., Photochem. Photobiol. 54, 403-410 (1991)
  3. Potten, C.S., et al., Int. J. Radiat. Biol. 63, 313-324 (1993)
  4. Kobayashi, N., et al., J. Invest. Dermatol. 101, 685-689 (1993)
  5. Todo, T., et al., Nature 361, 371-374 (1993)
  6. Nakane, H., et al., Nature 377, 165-168 (1995)
  7. Komatsu, Y., et al., Nucleic Acids Res. 25, 3889-3894 (1997)
  8. Kobayashi, N., et al., J. Invest. Dermatol. 110, 806-810 (1998)
  9. Nakagawa, A., et al., J. Invest. Dermatol. 110, 143-148 (1998)
  10. Otoshi, E., et al., Cancer Res. 60, 1729-1735 (2000)
  11. Katsumi, S., et al., J. Invest. Dermatol. 117, 1156-1161 (2001)
  12. Kobayashi, N., et al., Pigment Cell Res. 14, 94-102 (2001)
  13. Wakasugi, M., et al., J. Biol. Chem., 277, 1637-1640 (2002)
  14. Imoto, K., et al., J. Invest. Dermatol. 119, 1177-7782 (2002)
  15. Nishiwaki, Y., et al., J. Invest. Dermatol. 122, 526-532 (2004)
  16. Sugasawa, K., et al., Cell 121, 387-400 (2005)
  17. Yasuda, G., et al., Mol. Cell. Biol., 27, 6606-6614 (2007)
  18. Matsumoto, M., et al., J. Cell Sci., 120, 1104-1112 (2007)
  19. Yamamoto, A., et al., DNA Repair, 6, 649-657 (2007)

商品は「研究用試薬」です。人や動物の医療用・臨床診断用・食品用としては使用しないように、十分ご注意ください。

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